半导体设备制造商 ASML 出货第二台 "高 NA 值 "EUV 机器

电脑芯片制造商最大的设备供应商ASML公司周三表示，已向第二家客户交付了一套最新的 "高NA "EUV光刻系统。

ASML在12月至1月间向英特尔交付了一台High NA工具，但没有透露第二家客户的身份。潜在客户可能包括为 Nvidia 和苹果生产芯片的合约芯片制造商台积电或三星。

这些设备每台造价约 3.5 亿欧元（3.7 亿美元），预计将用于生产更小、更快的新一代芯片。

在披露此次出售的同时，ASML 的第一季度收益也未达到预期。

台积电和三星此前曾表示，它们计划采用新系统，预计这将大大增加单个芯片可封装的晶体管数量。

英特尔已表示将于 2026-2027 年开始在其 14A 系列芯片的早期生产中使用高 NA 工具。

第一台高 NA 机器是在 ASML 位于荷兰 Veldhoven 的总部组装的，正在那里采用 EUV 技术的公司可以使用这台机器进行测试。该公司表示，它已接到 10 至 20 台机器的订单。

光刻系统使用光束来帮助创建芯片电路。ASML 的第一代 EUV 系统目前用于制造大多数智能手机芯片和人工智能芯片，它使用 "极紫外 "波长的光来创建分辨率低至 13 纳米（比病毒还小）的设计特征。

该公司周三在 X 上发布的一篇帖子和照片中说，High NA 机器已成功制造出 10 纳米的特征。据 ASML 网站称，该机器的理论极限是 8 纳米。